远程等离子清洁仪

用于SEM,FIB,TEM,XPS,ALD,CD-SEM,EBR,EBI,EUVL和其它高真空系统的远程等离子清洁仪。远程等离子源需安装在要被清洁的真空腔室上，控制器向远程离子源提供射频能量。射频电磁场能激发等离子体，分解输入气体而产生氧或氢的活性基，活性基会扩散到下游的真空腔室，并与其中的污染物发生化学反应，反应产物能轻易地被抽走。远程等离子清洁仪可同时清洁真空系统和样品！

远程等离子清洁仪系列具有三种型号：

1）EM-KLEEN 一款智能设计、功能强大的下游式等离子清洁仪。

2）SEMI-KLEEN quartz是为满足半导体行业的苛刻清洁要求而设计

的解决方案。

3）SEMI-KLEEN sapphire用于半导体行业的去污清洁，且支持耐

腐蚀性气体等离子应用。

仪器特点：

• 快速清洁被污染的SEM样品。2-60秒氢等离子体清洁ALD样品。

不需减速或关闭涡轮分子泵

• 低等离子偏压设计减少离子溅射和颗粒生成。结合自有专用多级

气体过滤技术，SEMI-KLEEN能够满足用户苛刻的颗粒污染清除要求

• 可选蓝宝石管腔体和耐腐蚀性气体的流量控制器，以便支持CF4, NF3, NH3, HF, H2S等应用

• 特有的等离子强度传感器可实时监测等离子状态，用户对等离子状态一目了然

• 基于压力传感回馈控制的自动电子流量控制器，无需手动调节针阀

• 直观的触摸屏操作，可定义60条清洗程序方案

• 拥有智能安全操作模式和专家控制模式；SmartSchedule^TM定时装置，通过检测样品装载次数或时间间隔来定时清洁系统

• 低电磁干扰设计，安静的待机模式

推荐应用：

•  FE-SEM、FIB和TEM的原位样品清洁

•  适用于半导体设备，如CD-SEM, EBR, EBI, EUVL等

•  高真空室清洁，去除碳氢化合物和氟碳污染物

•  减少特高真空(EHV)和特高真空(UHV)泵的停机时间

•  适用于XPS、SIMS、AES和原子探针的腔室和样品清洁

•  适用于ALD和其它半导体加工设备的腔室和样品清洁

PIE Scientific研发的SmartClean™ 技术结合了核研究

和半导体行业先进的等离子体放电技术。EM-KLEEN

和SEMI-KLEEN等离子清洁仪比前几代等离子体清洁仪

先进得多。我们的等离子清洁仪可以在任何技术指标上

更胜一筹；此外，许多独特的功能只是在我们的仪器

产品上才拥有。

我们还提供其它系列样品清洁、样品杆清洁及存储等应